技術文章
Technical articles勻膠機是在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備,膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。
勻膠工作原理
一個典型的勻膠過程包括滴膠,高速旋轉以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態(tài)滴膠方式是在基片低速(通常在500轉/分左右)旋轉的同時進行滴膠,“動態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態(tài)滴膠尤其適用,不會產(chǎn)生針孔。滴膠之后,下一步是高速旋轉。使光刻膠層變薄達到終要求的膜厚,這個階段的轉速一般在1500-6000轉/分,轉速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度,溶劑揮發(fā)速度,固體含量以及表面張力等)以及基片的大小??焖傩D的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉速以及勻膠時間往往能決定終膠膜的厚度。
一般來說,勻膠轉速快,時間長,膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以給予勻膠過程以足夠的時間,讓諸多影響因素達到平衡。勻膠工藝中重要的一個因素就是可重復性。